半导体掩模版专有技术依赖度高 龙图光罩研发优势显著

半导体掩模版高度依赖专有技术，有鲜明的“Know－How”特点。深圳市龙图光罩股份有限公司（以下简称：龙图光罩）是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，拥有显著的研发优势，能够为半导体掩模版生产提供技术保障。

据了解，龙图光罩的研发团队在半导体掩模版领域耕耘多年，具有深厚的技术积累以及良好的技术转化能力。同时，龙图光罩不断吸收和引进人才，积极与高校、科研院所开展产学研合作，提升公司研发实力，强大的人才队伍为公司技术研发与积累提供了坚实的人才基础，是公司研发实力的有力保证。

凭借强大的研发实力、持续的自主创新能力以及深厚的行业经验，龙图光罩获得了国家工信部专精特新“小巨人”企业认定、广东省功率半导体芯片掩模版工程技术研究中心认定、广东省专精特新中小企业认定、国家高新技术企业认定。截至2023年6月30日，龙图光罩已取得15项发明专利和31项软件著作权，具有较强的研发优势。

除此之外，龙图光罩在高精度半导体掩模版领域不断进行设备引进与技术攻关，针对半导体掩模版的工艺特点，形成了多项自主研发的核心技术，包括图形补偿（OPC）技术、精准对位标记技术、光刻制程管控技术、曝光精细化控制技术、缺陷修补与异物去除技术等，涵盖CAM、光刻、检测三大环节。同时，龙图光罩还积极开展技术布局与储备，储备了电子束光刻技术及PSM相移掩模版技术，形成了一定的技术成果。

值得一提的是，龙图光罩目前已实现130nm工艺节点半导体掩模版的量产，实现了±20nm的CD精度和套刻精度，技术实力及工艺能力在国内第三方半导体掩模版厂商中达到了领先的水平。

据了解，龙图光罩将于12月15日科创板首发上会，此次IPO，龙图光罩拟募资6．63亿元，分别用于高端半导体芯片掩模版制造基地项目、高端半导体芯片掩模版研发中心项目、补充流动资金项目。相信在未来的发展中，龙图光罩能够继续发挥自身的技术研发优势，成为国内领先的第三方半导体掩模版生产企业。