国产替代需求急迫，龙图光罩为半导体掩模版产业持续赋能

半导体掩模版作为半导体制造关键材料之一，由于其技术壁垒较高，国内市场长期由国际大厂所占据，国内厂商市场影响力尚低。基于此，深圳市龙图光罩股份有限公司长期聚焦半导体掩模版研发，不断实现技术创新和产品迭代升级，掩模版制程能力和下游应用领域不断扩展，成功进入了国内众多知名特色工艺半导体厂商供应商名录并建立起稳定的合作关系，为国产半导体产业持续赋能。

相关资料显示，龙图光罩成立于2010年，主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代，半导体掩模版对应下游半导体产品的工艺节点从1μm逐步提升至130nm，产品广泛应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟IC等特色工艺半导体领域，终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。

龙图光罩以特色工艺半导体市场为切入点，紧扣国内半导体厂商的发展需求，不断提升掩模版工艺技术水平和客制化服务能力，逐步进入国内多个大型特色工艺晶圆厂供应商名录，一定程度上推动了我国半导体掩模版产业的国产化。

深耕行业十余载，龙图光罩已发展成为国内技术领先的半导体光罩标杆企业，先后获得广东省功率半导体芯片掩模版工程技术研究中心认定、广东省专精特新中小企业认定、国家高新技术企业认定等。截至2023年6月30日，龙图光罩拥有发明专利15项，实用新型专利26项，计算机软件著作权31项。

目前掩膜版国产化率较低，国产替代需求急迫，龙图光罩将继续深耕半导体掩模版领域，加大研发投入，以更先进的技术、更优质的产品和更完善的服务，引领我国半导体产业的发展。